У книзі розглянуто основні питання відбивальної еліпсометрії, зокрема зв'язок характеристик відбивальної системи із поляризаційними параметрами відбитої від системи - одношарової, двошарової та анізотропних середовищ. Розглянуто основи методу фотометричної еліпсометрії, алгоритм розрахунку параметрів системи за виміряними значеннями еліпсометричних даних, а також викладено основи еліпсометричних методів контролю оптичних деталей, підданих різним способам обробки поверхні. Наведено результати еліпсометричних досліджень діелектричних покриттів, йонно імплантованих напівпровідників, процесів взаємодії атмосферного повітря із поверхнею тощо. Призначено для наукових працівників тв інженерів, які використовують еліпсометричні прилади у своїх дослідженнях, викладачів і студентів вищих навчальних закладів.